2010年7月28日（水）から7月30日（金）東京ビッグサイトで開催される「第21回マイクロマシン／MEMS展」に光MEMSやナノインプリント関連のシミュレーション・ソフトウェアを出展

日本アールソフトデザイングループ株式会社では、7月28日（水）から7月30日（金）まで東京ビッグサイトにて開催される「第21回マイクロマシン／MEMS展」において、DiffractMOD、FullWAVE等最新のフォトニック関連シミュレーション・ソフトウェアを事例デモと共に紹介致します。

DiffractMODは光学回折構造を持ったデバイスのためのシミュレーション・ソフトウェアで、RCWA法をベースにしたソルバーを採用し、誘電物質や金属の様な分散・損失のある物質にも適用可能で、周期構造を持ったフィルタ等の設計・解析に威力を発揮し、反射・透過・吸収効率の計算が簡単にできます。DiffractMODの使用事例として、MEMS制御によるナノ格子フィルタ等を紹介致します。
ナノ構造のフォトニック結晶等を使ったLEDの光取出し効率等光学特性を解析するFDTD法シミュレーション・ソフトウェアで、並列演算機能と不均一メッシュ生成機能により大規模な3次元空間の高速シミュレーションも可能なFullWAVEについて、ナノ構造を用いたLEDの高効率化に関する使用事例を紹介致します。更に、ナノインプリントにより形成する超微細構造の最適化にFullWAVEが用いられており、高輝度LED実現のためのナノインプリントについても紹介致します。

皆様のお越しをお待ちいたしております。



■「第21回マイクロマシン／MEMS展」 概要
開催日時：2010年7月28日（水）から30日（金） 10：00 - 17：00
開催会場：東京ビッグサイト 東5・6ホール
弊社ブース番号：F-12
http://www.micromachine.jp/top.html

【本件に関するお問い合わせ先】
日本アールソフトデザイングループ株式会社
担当：営業部　赤木京一
〒105-0014 東京都港区芝1-9-6 マツラビル2F
TEL:03-5484-6670 FAX:03-5484-2288

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