第29回最先端実装技術・パッケージング展 出展のお知らせ
テストチップをコアとした次世代半導体先端実装ソリューションプロバイダーの株式会社ウェル(所在地:東京都品川区、代表取締役:江田尚之)は、2015年6月3日(水)~5日(金) 東京ビッグサイトで開催されます第29回最先端実装技術・パッケージング展内 eX-tech2015に出展します。
弊社はプラズマソリューションカンパニーとして、あらゆる方式のプラズマ装置を開発・販売しております。今回の展示会では、下記の新製品5機種をご紹介させていただきます。
■ダイレクト/リモート方式大気圧プラズマ装置(プラズマ照射幅:100~1850mm)
微細な配線パターン品に対してダメージフリーのプラズマ処理
1台の装置でダイレクト/リモート方式に対応
ワーク厚10mm以上の立体形状且つ非導電性材質へのプラズマ照射
■高密度ラジカル大気圧エアープラズマ装置(プラズマ照射面積:5~15mmφ)
アルゴン・窒素ガス等を一切必要としない、低ランニングコストを実現
■大気圧窒素プラズマ装置
従来機より窒素ガス消費量を30%削減
プラズマ照射幅100~2500mmまで対応
■マルチガス対応ピンプラズマ装置
アルゴン・窒素・エアー等でプラズマ発生可能
プラズマ処理面積が1mmφ以下の局所部へのプラズマ照射
■RIEプラズマ装置
異方性ドライエッチング用途
・卓上型(チャンバーサイズ:300x230x300mm)
・量産機(チャンバーサイズ:500x500x500mm)
□主な用途
・半導体ICパッド部ドライ洗浄
・ダイボンディング前処理
・樹脂封止前処理
・アンダーフィル材塗布前処理
・超音波接合前処理
・レジストアッシング
・シリコンエッチング
・各種材料の表面改質(親水化、疎水化処理)
・液晶基板の端子洗浄
・FPC基板の表面改質
・COF/COG基板洗浄
・太陽電池
・DNAチップ
・各種材料への印刷前処理
■第29回最先端実装技術・パッケージング展(eX-tech2015)概要
[会期]2015年6月3日(水)~6月5日(金) 3日間
[開場時間]AM10:00~PM5:00
[会場]東京ビッグサイト (東京都江東区有明3-21-1)
[ブース]3F-03-02
[出展内容]
ダイレクト/リモート方式アルゴンプラズマ装置
高密度ラジカル大気圧エアープラズマ装置
大気圧窒素プラズマ装置
マルチガス対応ピンプラズマ装置
RIEプラズマ装置
■ダイレクト/リモート方式大気圧プラズマ装置(プラズマ照射幅:100~1850mm)
微細な配線パターン品に対してダメージフリーのプラズマ処理
1台の装置でダイレクト/リモート方式に対応
ワーク厚10mm以上の立体形状且つ非導電性材質へのプラズマ照射
■高密度ラジカル大気圧エアープラズマ装置(プラズマ照射面積:5~15mmφ)
アルゴン・窒素ガス等を一切必要としない、低ランニングコストを実現
■大気圧窒素プラズマ装置
従来機より窒素ガス消費量を30%削減
プラズマ照射幅100~2500mmまで対応
■マルチガス対応ピンプラズマ装置
アルゴン・窒素・エアー等でプラズマ発生可能
プラズマ処理面積が1mmφ以下の局所部へのプラズマ照射
■RIEプラズマ装置
異方性ドライエッチング用途
・卓上型(チャンバーサイズ:300x230x300mm)
・量産機(チャンバーサイズ:500x500x500mm)
□主な用途
・半導体ICパッド部ドライ洗浄
・ダイボンディング前処理
・樹脂封止前処理
・アンダーフィル材塗布前処理
・超音波接合前処理
・レジストアッシング
・シリコンエッチング
・各種材料の表面改質(親水化、疎水化処理)
・液晶基板の端子洗浄
・FPC基板の表面改質
・COF/COG基板洗浄
・太陽電池
・DNAチップ
・各種材料への印刷前処理
■第29回最先端実装技術・パッケージング展(eX-tech2015)概要
[会期]2015年6月3日(水)~6月5日(金) 3日間
[開場時間]AM10:00~PM5:00
[会場]東京ビッグサイト (東京都江東区有明3-21-1)
[ブース]3F-03-02
[出展内容]
ダイレクト/リモート方式アルゴンプラズマ装置
高密度ラジカル大気圧エアープラズマ装置
大気圧窒素プラズマ装置
マルチガス対応ピンプラズマ装置
RIEプラズマ装置
添付画像・資料
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企業情報
企業名 | 株式会社ウェル |
---|---|
代表者名 | 江田尚之 |
業種 | 精密機器 |
コラム
株式会社ウェルの
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